如何避免蒸馏过程中样品暴沸?
时间:2024-05-30
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日常实验中,大家在使用旋转蒸发仪对样品进行分离提纯的时候,会发生突然暴沸的情况,导致暴沸的原因有:

1、蒸发瓶转速过快,加热锅温度过高,导致蒸发瓶内的样品受热不均,引起暴沸;

2、真空度控制不精确,常见于真空值剧烈下降,使得溶液沸点迅速降低至加热温度以下,引起暴沸;

3、物料组成成分配比的原因导致暴沸,常见于活性成分或低沸成分中,这与样品特性息息相关。

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如果暴沸的情况较严重,建议调节真空度,适当降低加热锅温度,调节蒸发瓶转速,并对样品进行少量多次蒸馏处理。

避免暴沸的核心在于对蒸馏系统真空度的精确控制,德国Heidolph致力于为用户提供完整的蒸馏解决方案,旋转蒸发仪搭配真空泵及真空控制系统的组合方案使用户轻松应对个性化、严苛的蒸馏任务,并满足理想的实验效果。

常见的真空控制系统主要有两种:内置真空控制系统及外置真空控制系统。

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内置真空控制系统

Heidolph控制型旋转蒸发仪通过中央控制单元实现了集中控制所有工艺参数:真空、冷却温度、转速及加热锅温度。通过DAA动态精蒸馏模式,可在加热锅的加热阶段开始全自动蒸馏过程,系统真空随加热锅温度变化而变化,直至加热锅达到设定的温度,实现沸点识别。有效避免暴沸、发泡的情况,高效蒸馏。

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外置真空控制系统

目前基础款旋转蒸发仪不具备内置真空控制系统,一般建议选择搭配电子真空控制器进行旋蒸系统的真空控制。

Hei-VAC Control电子真空控制器,通过控制器内置的真空传感器、调节阀和排气阀,可轻松将真空系统升级为电子控制,使整个蒸馏过程更加高效,蒸馏条件更稳定温和,可有效避免样品暴沸及冲料的情况,是经济实惠的数字真空控制不二之选。


Hei-VAC Control
电子真空控制器

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适用于手动真空系统或阀控真空泵的精确真空控制,并配有集成陶瓷真空传感器,调节阀和排气阀。

• 经济实惠的数字真空控制选项

• 陶瓷真空传感器具有良好的耐化学性,测量精度高,不受气体类型影响

• 易于固定在蒸发仪上方的冷凝器轴上,或作为独立装置,底座靠近装置

• 放气阀按钮可快速释放真空,防止暴沸

• 曲线图记录整个真空过程

• RS232 接口

• 支持加载、编辑和储存多达10种个性化程序,包括真空值和时间的预设

• 多语言菜单窗口(含中文)

• 安装、操作简便

• 适用于未自带真空控制功能的Hei-VAP旋转蒸发仪





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